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香港開發(fā)出自清洗服裝
來源:admin
作者:admin
時間:2004-06-20 08:01:00
香港理工學院的研究人員開發(fā)除一周化學涂布,這預示著自清洗服裝的出世。
據(jù)報道,這種涂布能夠暴露在陽光下能夠消除灰塵,這種涂布包含了眾多二氧化鈦微粒。這些微粒的直徑小于20納米,大約是人類頭發(fā)直接的1/2500,幫助毀掉污處的碳分子。
這項研究是香港理工學院的研究員Walid Daoud和約翰.辛承擔的。